光掩模是用於光刻製程的不透明板。不透明表面上的開口或孔被佈置成允許光線透過,從而將圖案從光掩模轉移到另一種材料上,例如紙張。光掩模常見於半導體製造中,它們將積體電路的圖像和排列精確地轉移到電路板上。這個過程稱為光刻。
ID : IL_1029 | 語言: 英文/日文/法文/德文 | 出版商: 白細胞介素 | 格式 :
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報告編號: IL_55 | 報告語言: 英文/日文/法文/德文 | 出版商: 白細胞介素